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电镀化学镀(dù)的(de)区别

来源:发布时间:2022-06-18 14:46:00点击率:

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化学镀与电镀(dù)从原理上的区别就是(shì)电镀需要外加的电(diàn)流和阳(yáng)极,而化学镀是(shì)依(yī)靠在金属表面所发生的自催化反应。    

化学(xué)镀镍层是极(jí)为均匀的,只(zhī)要镀液能浸泡得到,溶质交换充分,镀层就会非常均匀,几乎(hū)可以达到仿形的(de)效果。  

电镀无法对一(yī)些形状复杂的工件进行全表面施镀,但化学镀过以对任何形状工件施镀(dù)。  

高磷的化学镀镍层为非晶态,镀层表(biǎo)面没有任何晶体(tǐ)间隙,而电(diàn)镀层为典(diǎn)型的晶态镀层。  


电镀因为有外加的电流,所以镀速要比化学镀(dù)快得我,同等厚度的镀层电(diàn)镀要比化学镀(dù)提前完成。    


化学镀(dù)层的(de)结合力要(yào)普(pǔ)遍高于电镀层(céng)。化学镀由于大部分使用食品级(jí)的添加剂,不使用诸如氰化(huà)物等有害物质,所以化学镀比电镀要环保(bǎo)一些(xiē)。

化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实(shí)现很多色彩。

   化(huà)学镀镍技术是(shì)采用金属盐和还原剂,在材(cái)料表面(miàn)上(shàng)发生自催化反应获得(dé)镀层的方法。到目前为止,化学镀镍是国外(wài)发(fā)展快的表面处理工艺之(zhī)一,且应用范围也广。化学镀镍之所以得(dé)到迅速发展,是由于其优越的工艺特点所决定。    

一、化学镀镍层的工艺特点    

1. 厚度均匀性    

厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍(niè)的一(yī)大特点,也是(shì)应用广(guǎng)泛的原因之一,化学镀镍避免了电镀层由于电流分(fèn)布不均匀而带来的(de)厚度不均匀,电镀层的厚度在整个零件,尤其是形状复杂的零(líng)件(jiàn)上差异很大,在零件的边角和离阳极近的(de)部位,镀层较(jiào)厚,而在(zài)内表面或离(lí)阳极远的地方镀层很薄(báo),甚至镀不到,采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时,只要零件表面和镀液接触,镀液中消耗的成份能及时得到补充,任(rèn)何部位的镀层厚度都基本相同,即(jí)使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。    

2. 不存在氢(qīng)脆的问题    

电镀是利用电源(yuán)能将镍阳离子转换成金属镍沉积到阳极上,用化学(xué)还原的方法是使镍阳离(lí)子还原成金属镍并沉积在基体金属表面(miàn)上,试验表(biǎo)明,镀层中氢(qīng)的夹(jiá)入与化学还原反应无关,而与(yǔ)电镀条件有(yǒu)很大关系(xì),通常镀层中的含氢量随电流密度的增加(jiā)而上升。    

在电镀镍液(yè)中,除了一小部分氢是由NiSO4和H2PO3反应产生(shēng)以外,大部分氢是由于两极通电时发生电极反应引起(qǐ)的水解而产生,在阳极反应中,伴随着大量氢的产生,阴极上(shàng)的氢与金属Ni—P合金同时析出,形成(Ni—P)H,附着在沉积层中,由于(yú)阴极表面形成超数量的原子氢,一部分脱附生成H2,而来不及(jí)脱附的就留(liú)在镀层内,留在镀层内的一部分氢扩散到基体(tǐ)金(jīn)属中,而另一部分氢在基体金(jīn)属和镀层的缺(quē)陷处聚集形成氢气团,该气团有很高(gāo)的(de)压力,在压力作用(yòng)下,缺(quē)陷处导致了裂纹,在应力作用下,形成断裂源,从而(ér)导(dǎo)致氢(qīng)脆断裂。氢(qīng)不仅渗透(tòu)到基体金属中(zhōng),而且也渗透到镀层中,据报道,电(diàn)镀镍要(yào)在400℃×18h或230℃×48h的热处理之后才能基本上除去镀层(céng)中的(de)氢,所以电镀镍除氢是很困难的,而化(huà)学镀镍不需要除氢。    

3. 很多材料和零部件的功能如耐蚀(shí)、抗高温氧化性等均是由材料和零部件的表面层(céng)体现出来(lái),在一(yī)般情况下可以采用某些具有特(tè)殊功能的化(huà)学镀镍层取代(dài)用其他方法制(zhì)备的整体实心材料,也可以用廉价的基体材料化学镀镍代替(tì)有贵重原(yuán)材料制造的零部件,因此(cǐ),化学镀镍的经济(jì)效益是非(fēi)常大的。

    4. 可沉积在各种材料的表面(miàn)上,例(lì)如:钢镍基(jī)合金、锌基合金(jīn)、玻璃、陶瓷、塑(sù)料、半导体等材料的(de)表面(miàn)上,从而为提高这些材料(liào)的性能创造了条件。

    5. 不需要一般电镀所需的(de)直流电机或控制(zhì)设备(bèi),热处理温度低,只要在400℃以下经不同(tóng)保(bǎo)温时间后(hòu),可得到不(bú)同的耐蚀性和耐磨(mó)性,因此,它不存在热处理变形的问题(tí),特别适用于加工一些形状复杂,表(biǎo)面(miàn)要求耐磨和耐蚀的零部件等。

    6. 化学沉积层的厚度可控,其工艺简单(dān),操作方便(biàn),温(wēn)度低,成本比其它表面处理防(fáng)护低,适用于在(zài)中(zhōng)、小型工厂或小(xiǎo)批量生产。

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