1、蒸发镀膜设备与技术 真空（kōng）蒸发镀膜设备主（zhǔ）要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡（xī）、不锈钢等金属（shǔ））、七彩膜仿金膜等,从（cóng）而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金（jīn）属化制品。广（guǎng）泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶（píng）盖、女式鞋后跟等领域, JTPZ多功（gōng）能镀膜（mó）技术及设备（加有射频等离子体聚（jù）合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完（wán）成蒸发镀铝和（hé）射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功（gōng）能。射（shè）频等离子体聚合（hé）膜（mó）还应用于光学产品、磁记录介质（zhì）、军事国防（fáng）保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。 用户选择在灯（dēng）具基（jī）体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜（mó）或灯具基体在真空室进行前处（chù）理（不喷底漆）、镀铝（lǚ）膜、镀保护膜（mó）工（gōng）艺。

  2、真空镀加工的（de）等离子扩渗镀膜设备及技术（shù）；离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部（bù）、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度（dù）低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及（jí）钛合金结构件，各种模具和各种不（bú）锈钢制品。 等离子（zǐ）体化学气相沉（chén）积设备与技术(离（lí）子渗氮，氮碳（tàn）共渗) 等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体（tǐ）辅助沉积硬质镀膜新（xīn）技术。在（zài）一定压力、温度的真空炉（lú）内，加入适当比例（lì）的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉（huī）光放电产生均（jun1）匀等离子体。在不（bú）同工艺条件下，可在被处（chù）理（lǐ）工件表（biǎo）面形成各种硬质（zhì）膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多（duō）层复合膜（mó）等（děng），显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比，PCVD技术可实现离子渗氮、渗碳（tàn）和（hé）镀膜在同一炉内依次进行，高效率地实现渗透复合工（gōng）艺（yì）。该设备适用于要求提高表面耐磨损、耐腐蚀、抗高温氧化（huà）、抗疲劳的零部件和工模具。被处理材料主要包括：高速钢（gāng）、冷热钢、冷热模具钢、结构钢、不锈钢、钛合金（jīn）、硬质合金等